溅射：jiàn shè 基本解释：(1) [spatter;sputtering](2) 成飞散的点滴地喷或射出(3) 由于重离子碰撞,原子或原子团从金属表面喷射出来●详细解释：◎ 溅射 jiànshè(1) [spatter;sputtering](2) 成飞散的点滴地喷或射出(3) 由于重离子碰撞,原子或原子团从金属表面喷射出来
1、无闪烁、无溅射、低眩光，彻底消除眼睛疲劳，且不含液态汞。是绿色环保的首选光源。
2、初步探讨了溅射功率、气压和时间等不同溅射参数对铝层结构和铝层在氟塑料表面附着情况的影响。
3、高性能热所射镀膜玻璃也称为阳光控制镀膜玻璃，是在优质浮法玻璃或其他基片上用真空磁控溅射的方法镀多层金属或金属化合物薄膜而成，可有效控制玻璃对太阳能的反射、透过和吸收，也就是说允许足够的自然光进入室内用于采光，还能把大部分太阳光辐射热反射掉，减少室内热量的积聚，降低通风及空调的费用，而且可以根据客户的需求，灵活选择透过率，反射率及反射颜色。
4、铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。
5、由试验可知，薄膜透过率随溅射气体总压的升高而升高。
6、茼麻霜霉病的病原菌以卵孢子在病组织中越冬，翌年条件适宜时，卵孢子萌发产生芽孢囊，然后再产生游动孢子，借雨水溅射到叶片上，产生芽管从叶背气孔侵入，进行初侵染，以后病部不断产生游动孢子借风雨传播进行多次再侵染，致病情不断扩大。
7、然后，由压缩空气形成的高压气浪会将猪脑吹成脑浆，并同样从枕大孔处喷溅出来? ?从事这个操作程序的时候，猪脑通常会四处喷溅，并溅射到操作者的身上。
8、闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在切削刀具上的应用
9、本文研究了用igc (惰性气体蒸发凝聚原位温压法)制备并真空退火到不同晶粒尺寸的纳米晶铜和微米晶铜(冷轧紫铜、电解铜)在酸性硫酸铜溶液和中性含氯溶液中，在自腐蚀状态和阳极极化状态下的腐蚀性能。使用了动电势极化、电位测定、循环伏安法( cv )和电化学阻抗谱( eis )等方法。 x -射线衍射( xrd )的方法用来估算纳米晶铜晶粒尺寸。按照改进的工艺参数，在单晶硅衬底上溅射-淀积了tini薄膜，并进行了超高真空退火， dsc法测得其马氏体逆相变峰值温度为72 ，利
10、利用扫描电镜( sem )结合原子力显微镜( afm )研究了的溅射膜的表面形貌及成膜机理，并系统研究了各工艺条件(放电功率、工作压力、溅射处理时间、氧氩比等)对表面形貌的影响。
11、氧气分压的增大，维持同样溅射电流强度的靶阴极电压增大，薄膜的沉积速率逐渐减小。
12、对于超大规模集成电路的平面状表面，可以用偏置溅射淀积法的层间介质淀积（见9．2．4节）或用平面化工艺来近似获得。
13、聚四氟乙烯( ptfe )具有优异的自润滑、低摩擦、化学稳定性和热稳定性等的物理和化学性质而倍受人们的关注，但利用磁控溅射技术，以其为靶材研制高附加值的多功能面料研究极少。
14、利用射频磁控反应溅射法，在蓝宝石试片和半球形头罩上制备出所设计的sio _ 2和sio _ 2 si增透膜系。
16、为了得到在更高频率下适用的薄膜电感，在本实验中我们尝试制作了栅极型空心薄膜电感。我们采用掩膜法，通过磁控溅射制各样品，在不加磁性材料的情况下，适当选取线圈形状参数来得到较大的电感，由于形状参数的改变不影响样品的适用频率，因而也能达到增大品质因数( q值)的目的。
17、本文利用射频磁控溅射的方法，以聚四氟乙烯( ptfe )为靶材，在聚酰亚胺( pi )和聚丙烯( pp )基底上沉积氟碳膜，对不同工艺条件(放电功率、真空度、处理时间)进行了探讨。
18、微电子设备用耐熔硅化物溅射电极
20、本文采用非平衡磁控溅射方法在调质处理后的aisi4118铬钼钢表面沉积了含ti类金刚石( ti - dlc )膜。作为主研人员研制的cz40系列闸阀、高温、高压铬钼钢大口径阀门分别获国家级新产品，市级科技进步一等奖，省级科技进步二等奖。
21、我们采用脉冲激光溅射沉积( pld )方法来制备双层薄膜。
22、本文采用非平衡磁控溅射方法在调质处理后的aisi4118铬钼钢表面沉积了含ti类金刚石( ti - dlc )膜。
23、溅射特性研究结果表明：屏极电压和溅射气压对离子束均匀性和束流密度影响显著；
24、蒸发层和溅射层的选择刻蚀是保证成品的关键步骤。
25、结果表明将激光溅射这一物理手段与化学合成的反应条件相结合，可以产生多种不同种类的原子团簇，是合成宏量团簇物质的一种新方法。
26、例如， koh溶液对硅的各向异性腐蚀，磁控溅射台制作光亮的铝膜，超声打孔机制作导压孔，静电键合装置对硅岛膜与玻璃极板的阳极封接等等。
27、以磁控溅射沉积方法，采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属*上制备了铝薄膜。
28、毁灭之球-斯芬克司可以释放强力的溅射伤害.这是个自动施放技能
29、溅射气体总压一定时，薄膜透过率随氩气分压的升高先升高后降低。
30、学院所属江西省材料表面工程重点实验室科研用房面积约2100m，大型关键仪器总值近600万元，主要仪器设备包括：场发射扫描电镜、激光粒度仪、Versa Therm HM热重分析仪、磁控溅射仪、多弧离子镀、真空热压仪、微弧氧化设备、非自耗真空电弧炉、VAF-334真空退火炉、LCR测试仪等。
31、主要模拟结果有： ? )入射离子到达靶面时的能量主要受到了射频辉光放电中阴极壳层西北工业大学硕士学位论文李阳平电压的影响，大部分离子的入射能量在阴极壳层电压值附近，离子溅射时接近于垂直入射;射频辉光放电受到阴极磁场的影响，等离子体中的离子主要集中在靶面溅射坑的上方，且入射离子主要来自这个区域;入射离子在输运过程中和背景气体分子有少量的碰撞，但影响不太大。
32、铝靶脉冲反应溅射沉积氧化铝薄膜中的迟滞回线的研究
33、磁控溅射制备五氧化二钒薄膜的研究
34、溅射时间越长或溅射功率越大或装载量越少，都有利于薄膜结晶。
35、由于车间冒出的浓烟含有大量毒性气体,并且硫磺、黄磷、五硫化二磷都属易燃有毒物品,如果用直流水枪直接喷射会造成着火物溅射导致火灾蔓延。
36、数百妖兽死后溅射出的血液,激起后方妖兽的凶性,舍生忘死地冲向西门吹雪化成的死亡白光之内。
37、但是现在，我觉得被谁讨厌、不和谁见面都无所谓。可能是明确了以下两个想法：“我心里有一条不想让别人跨越的线”和“希望确保最低限度的属于自己的时间”。试着这样做以后，我仿佛终于有点明白到底什么是朋友了。真不可思议。山本文绪134它们拍发的大量导弹可以造成不可思议的溅射伤害
38、它仍然是溅射伤害，还获得了暗黑执政官得反馈能力。
39、对于超大规模集成电路的平面状表面，可以用偏置溅射淀积法的层间介质淀积（见9 2 4节）或用平面化工艺来近似获得。
40、本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等
41、溅射就是用能量大于30eV左右的原子或离子，轰击材料表面，把表面上的材料除掉的过程。我并没有驱除掉心中那种压抑的感觉，不管我是在什么地方，我对周围的环境简直是毫无认识。
42、溅射气压和时间分别影响铝层在氟塑料表面的沉积速率和生长厚度。
43、采用先进的中频电源，溅射速度快，不但可以镀制氮化钛碳化钛氮化锆氮化铬及钛镍铬铜金银等等单一膜层或复合膜层，而且可以镀制铟锡合金ito氧化铝al2o3二氧化硅sio2氧化钛tio2氧化锆zro等等膜层，另外其配置多靶可以镀制多层膜，不但镀制膜层细腻而且镀制速度非常快，兼有其他镀法的优点，所以是一种性能非常优良的镀制超硬膜设备。
44、一个个子不高的小胖子,笨拙的游趟在湖底,瞪大那双水灵灵的小眼睛,憨头憨脑的四处环望,不时狼狈的躲避着那溅射起的熔炎。
45、溅射时衬底偏压和射频功率可以影响膜的结构，从而影响prf值。
46、结构方面：溅射态样品中物质的分布是ptco颗粒被非磁性的c分离成三维的分散孤立原子团簇。
47、在同一厂区内具生产全球顶尖技术的防紫外线膜、隔热膜、防暴膜、装饰膜、防弹膜、汽车膜、航天膜、深层染色膜、瓷控溅射膜、纳米镀膜。
48、它们拍发的大量导弹可以造成不可思议的溅射伤害
49、结果表明薄膜的制备方法影响了薄膜的微观结构，磁控溅射过程中，电场和磁场影响了靶材原子的沉积，使玻璃薄膜中的电偶极子在一定程度上得到了定向排布，使薄膜呈现出显著的二阶非线性效应。
50、采用偏压辅助rf溅射法，对低温物理气相沉积sic薄膜进行了研究，并首次在室温下制备出含有? sic构相并以其为主的sic薄膜。
51、一百五一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。
52、春雨啊，哗哗地下，雨珠落在湖面上，像珍珠落在玉盘里四面溅射；雨珠落在干土上，地皮上陷下一个小坑，像草原姑娘脸上的笑靥。雨好牧草就好，牧草好牲口就好，牲口好牧民的生活就好。
53、通过溅射法，在玻璃衬底上淀积了tini薄膜，并在600进行了真空退火， dsc法测得其马氏体逆相变峰值温度为75 ，利用原子力显微镜，对玻璃基tini形状记忆合金薄膜的衬底面与生长面进行了表面微观形貌分析，发现：生长面晶粒呈现出沿薄膜法线方向柱状堆积的趋势，晶粒致密性差，微孔洞多；而衬底面晶粒致密，几乎没有微孔洞存在。
54、但在宽脉冲方波气压激励下，所用溅射薄膜压力传感器出现响应失真现象。
55、创新之处： （ 1 ）提出了双原子分子转动分辨发射光谱的拟合方法，并利用拟合方法进行了氮气直流辉光放电产生的第一负带转动分辨光谱和磁控溅射沉积cnx膜过程中cn基团的振动带的转动线型拟合，获得了相应的转动温度。
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